炭化ケイ素マイクロ波乾燥装置は、炭化ケイ素乾燥に広く適用されている。

純炭化ケイ素は無色透明の結晶である。工業用炭化ケイ素は含有する不純物の種類と含有量が異なるため、浅黄、緑、青乃至黒色を呈し、とうめいど純度によって異なります。炭化ケイ素けっしょうこうぞう六方またはりょう面体のα-SiCと立方体のβ-SiC（立方炭化ケイ素）。α-SiCはそのためけっしょうこうぞう中炭素とシリコン原子の積層配列が異なり、多くの異なる変異体を構成し、70種以上が発見されている。β−SiCは2100℃以上でα−SiCに変化した。炭化ケイ素の工業的製法は、良質な石英砂と石油コークスを用いて抵抗炉内で精製する。精製された炭化ケイ素塊は、破砕、酸アルカリ洗浄、磁気選択、篩分け、または水選択を経て様々な粒度の製品を製造する。

天然含有量が少ないため、炭化ケイ素は主に人工的であることが多い。一般的な方法は石英砂とコークス混合し、その中の二酸化ケイ素と石油コークスを利用して、食塩と木屑を加えて、電気炉に入れて、2000°Cぐらいの高温に加熱して、各種の化学技術の流れを経てから炭化ケイ素微粉を得た。
マイクロ波乾燥設備全体の外形構造はコンパクトで、美しく、流暢で、敷地面積は小さい。この材料の物理特性に対して、合理的な箱体サイズを設計し、加熱器内のマイクロ波電力密度を均一にし、マイクロ波をトップダウン広帯域で供給し、材料の加熱をより均一にする。新しいマイクロ波乾燥技術と設備を採用している。材料の無汚染と均一な乾燥を実現することができ、同時に乾燥温度を大幅に下げることができ、また乾燥速度は通常数倍以上上昇し、生産効率は大幅に向上し、乾燥エネルギー消費は通常50%以上低下し、最終的に安全でクリーンで効率的な生産を実現する。

マイクロ波乾燥の特徴とメカニズムは一般的な乾燥技術とは異なり、概括すると以下の特徴がある：

1）マイクロ波乾燥中の乾燥層は、まず材料の内部に形成され、その後、内側から外側に広がる。原因は材料がマイクロ波条件下で内外同時に熱を受け、内部温度が外部より高く、水蒸気が内向表層から排出され、材料内部が先に乾燥層を形成する、通常の加熱は材料の外部に乾燥ハードシェルを形成しやすく、材料の品質と外観に影響を与えるだけでなく、乾燥速度も低下します。マイクロ波乾燥はこのような状況の発生を根本的に回避した。

2）マイクロ波乾燥による省エネ。遠赤外線と蒸気エネルギーで乾燥を行い、そのエネルギー利用率は50%未満であるが、マイクロ波をエネルギーとする利用率は75%以上に達し、遠赤外線と蒸気乾燥エネルギー消費より25%以上低下する。

採用する独自のマイクロ波源とその制御技術により、マイクロ波源システムがさまざまな複雑な環境下で長期的に連続的に安定して動作することを確保し、その中でマグネトロンの正常使用寿命≧1年、

標準に基づいて特製した高効率マイクロ波伝送システムを採用し、材料に対して均一なエネルギー供給を行い、材料の乾燥が均一であることを確保し、材料の局所温度が高すぎる現象を効果的に回避する、

独創的な数理モデルを採用し、乾燥技術の要求に合わせて科学的なキャビティ設計を行い、脱水効率が高いことを確保し、同時に避ける

キャビティ内の「ホットスポット」、「火をつける」、「材料をこぼす」、「ベルトを焼く」などの不良現象の発生を免れる、

主な性能及び技術パラメータ

お客様のニーズに合わせて注文する、

制御伝送帯の高動作温度≦200 oC、

マイクロ波周波数：2.45 GHz±25 MHz、

タッチパネルの表示、制御、自動、手動二重操作機能を備える、

赤外線湿度測定器を用いて、加熱箱内部の温度、湿度を測定し、全過程の正確な制御を実現する、

マイクロ波漏洩量：<2mw/cm2。

1、入力電源：三相五線380 V±10%50 Hz±1%
2、マイクロ波出力：48 kW（調整可能）
3、マイクロ波周波数：2450 MHz±50 Hz
4、定格入力の視在電力：≤69kVA
5、輸出入高さ：50 mm
6、ベルト幅：500 mm
7、伝送速度：0.1～5 m/min
8、外形寸法（縦×幅×高さ）：約12700×665×1668 mm
9、作業環境：0～40℃、相対湿度≤80%
10、マイクロ波ケース数：8ケース
11、GB 10436-1989作業場のマイクロ波放射衛生基準を満たす
13、GB/526.1-2002機械安全機械電気設備に適合

折り畳み主な応用分野

高水分粘稠性材料の乾燥、

粉状、顆粒状、シート状、ストライプ状、板状、小型ブランクなどの材料の乾燥、

触媒の活性化再生、

汚泥等の固体廃棄物の乾燥、殺菌、消毒、

食品、薬品、医薬原料の乾燥、殺菌、消毒、

米、小麦粉の乾燥、殺虫、防カビ処理、

お茶のクランクアップ、お線香の引き上げ、

高分子材料の硬化、